La startup cinese Prinano afferma che la tecnologia di nanoimprinting può produrre in serie chip ottici senza le macchine ASML

Prinano, una startup di Hangzhou nella provincia dello Zhejiang, sostiene di aver validato con successo la produzione in serie di chip fotonici su wafer di silicio da 8 pollici attraverso la litografia a nanoimprinting (NIL), raggiungendo questo risultato a un decimo del costo della tradizionale litografia a ultravioletti profondi (DUV). In collaborazione con Shenzhen Litra Technology, l'azienda ha annunciato venerdì sul suo account WeChat di aver prodotto wafer di chip ottici da 8 pollici senza utilizzare DUV. Utilizzando l'apparecchiatura NIL a cuscino d'aria sottovuoto PL-AS di Prinano insieme a materiali di imprinting a doppio strato personalizzati, questo metodo potrebbe ridurre significativamente i costi di produzione dei chip e facilitare la produzione a livello di wafer per applicazioni in comunicazione ottica, rilevamento e lidar. Questa innovazione potrebbe fornire una nuova direzione per l'industria dei chip cinese, specialmente mentre le macchine DUV di ASML e tutti i sistemi EUV affrontano restrizioni all'esportazione. Tuttavia, permangono discussioni sui reali vantaggi della NIL in termini di volume, resa e chip non fotonici. Lo scorso agosto, Prinano ha anche consegnato quello che ha definito il primo sistema NIL per semiconduttori in Cina a un cliente locale, segnando il suo primo ingresso nella commercializzazione.