Operatore neurale informato dalla fisica accelera la simulazione 3D di maschere EUV

I ricercatori hanno sviluppato un operatore neurale informato dalla fisica (PINO) per problemi di scattering elettromagnetico nella litografia a ultravioletti estremi (EUV). Il modello, addestrato con equazioni pseudo-spettrali nel dominio della frequenza (PSFD), utilizza un operatore neurale di Fourier fattorizzato in un ramo laterale bidimensionale e un ramo assiale unidimensionale. Viene addestrato in modo autoconsistente con decomposizione di fondo, mantenendo l'accoppiamento vettoriale completo tra la maschera e la risposta multistrato senza invocare un'approssimazione di Born di ordine finito. Ciò riduce la dimensione e il costo del dominio computazionale. Il PINO è stato addestrato su circa 16.000 progetti di maschere dalla libreria LithoBench, campionati casualmente a ogni iterazione senza soluzioni di campo EM precalcolate. Raggiunge un errore medio assoluto di circa 7×10⁻³ per l'intensità diffusa di pattern di maschere non visti. Il lavoro, pubblicato su arXiv (2607.25330), consente una simulazione 3D scalabile di maschere EUV.