Huawei propone una nuova legge di scaling dei chip per aggirare il collo di bottiglia di ASML
Huawei Technologies ha introdotto un metodo innovativo di scaling dei chip noto come Legge di Scaling Tau (τ), progettato per ridurre la dipendenza dalle macchine litografiche avanzate di ASML, un fornitore olandese. Dal 2019, l'azienda ha subito restrizioni nell'accesso a semiconduttori all'avanguardia, agli strumenti litografici di fascia alta di ASML e alle risorse di automazione della progettazione elettronica (EDA). Questo nuovo approccio si concentra sulla compressione della costante di tempo effettiva (τ) piuttosto che sulla semplice riduzione delle dimensioni dei transistor, migliorando così la velocità di trasmissione dei segnali attraverso dispositivi e circuiti. He Tingbo, presidente del Comitato Scientifico di Huawei e capo della sua divisione semiconduttori, ha dichiarato che i progressi negli strumenti litografici 'non sono necessari' con questa strategia. Tuttavia, gli analisti avvertono che permangono notevoli ostacoli produttivi e la fattibilità di questa innovazione rimane incerta. Se avesse successo, rappresenterebbe un risultato significativo per Huawei e per la ricerca cinese dell'autosufficienza nel settore dei semiconduttori.
Fatti principali
- Huawei Technologies ha proposto la Legge di Scaling Tau (τ).
- La legge mira a bypassare la necessità di macchine litografiche avanzate di ASML.
- Dal 2019, Huawei è stata tagliata fuori da semiconduttori avanzati, strumenti litografici ASML e software EDA.
- Il nuovo approccio si concentra sullo 'scaling temporale' piuttosto che sul restringimento dei transistor.
- He Tingbo ha dichiarato che i miglioramenti litografici 'non sono necessari' con questo metodo.
- Gli analisti avvertono che gli ostacoli produttivi rimangono significativi.
- L'innovazione non è provata e affronta scetticismo.
- Il successo sarebbe una pietra miliare per Huawei e le ambizioni cinesi nel settore dei semiconduttori.
Entità
Istituzioni
- Huawei Technologies
- ASML
- Huawei Scientist Committee
Luoghi
- China
- Netherlands